Detailinformationen

Thermodynamische Daten:	Phasenverhaltenfest-flüssigkeitgas	Spektraldaten::	UV, IR, NMR, MITGLIEDSTAAT
Reinheit::	99.9%~99.999%	Andere Namen:	Kohlenstoffhexafluorid, 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane, Perfluoroethane, Ethforane, Halocarbon 116, PF
Auftritt::	Farbloses verflüssigtes Gas	UNO NEIN.:	2193
Grad-Standard:	Elektron-Grad-industrieller Grad	Synonyme:	1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; Äthan, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Fluo
Anwendung:	Elektronikausrüstung, Transformator, Kühl-flüssigkeit	MF::	C2F6
MW::	138,01
Hervorheben:	Elektrisches Gas , Reinheit plus Spezialitätengase

Produkt-Beschreibung

Reinheit 99,9% Gase FC1160 benutzt als vielseitiges Etchant in der Halbleiter-Herstellung

Hexafluoroethane-Beschreibung:

1. Verwendet als Isolierungsgas, Plasmaabbeizmittel, hohes DurchschlagsfestigkeitsLing-mittel
2. Für die Mikroelektronikindustrie für Plasmaradierungsgas und Gerätoberflächenreinigung, Faserproduktion, Abkühlung der niedrigen Temperatur.
3. schädlich zur Umwelt, zum Wasser und zur Atmosphäre Verschmutzung verursachen, kann die atmosphärische Ozonschicht hat eine starke destruktive Kraft.

Spezifikationen:

1. Physikalische Eigenschaften

Ware	Hexafluoroethane
Molekulare Formel	R116
CAS No	76-16-4
UNO nein.	2193
Gefährliche Klasse	2,2
MF:	C2F6
Hubraum	40L, 500L
Füllendes Gewicht	nachfüllbarer Zylinder 530kg/500L nachfüllbarer Zylinder 20kg/40L
Lagerung und Transport	Gebrauch, Speicher und Transport unter 45C. Speicher in den kühlen und gut-gelüfteten Bereichen. Halten Sie weg von Feuer, Hitze, Sonnenlicht und brennbaren Substanzen. Griff sorgfältig wenn Be- und Entladung, zum von Schäden der Gasflaschen und der Zusätze zu vermeiden.

2. typische technische Daten

Reinheit, %	≥99.8
Feuchtigkeit, PPMs	≤10
Säure, PPMs	≤1
Dampf-Rückstand, PPMs	≤100
Auftritt	Farblos, nicht trüb
Geruch	Kein merkwürdiger Gestank

Molekulargewicht	66,1
Siedepunkt, °C	-24,7
Kritische Temperatur, °C	113,5
Kritischer Druck, Mpa	4,58
Spezifische Wärme der Flüssigkeit, 30°C, [kJ (kg°C)]	1,68
ODP	0
GWP	0,014

Anwendungen:

Multifunktionsätztechnik

In der Produktion der Halbleiterradierung des Metalls

Das Metallsubstrat

Es kann in der selektiven Radierung des Metallsilikonmetalls und des Metalloxids verwendet werden.

Unter der verlängerten abzufeuern Belichtung oder starker Hitze die Behälter möglicherweise brechen heftig und Rakete.

Größe und Tag:

Herkunftsort:	China
Markenname:	Newradar Gas
Zertifizierung:	ISO/DOT/GB
Modellnummer:	N/A

Min Bestellmenge:	1000 Kilogramm
Preis:	Verhandlungsfähig
Verpackung Informationen:	Standardexportverpackung: jeder durch zwei Poly-netze geschützt zu werden Zylinder, stehend auf der
Lieferzeit:	15-25 Werktage empfingen nachher Ihre Zahlung
Zahlungsbedingungen:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:	3,00 Tonne pro Monat

UNO KEINE Reinheit 2193 99,9% elektronische Gase FC1160 für Halbleiter-Herstellung

Elektrisches Gas

Reinheit plus Spezialitätengase

Reinheit 99,9% Gase FC1160 benutzt als vielseitiges Etchant in der Halbleiter-Herstellung

Stickstoffgas,

Elektrisches Gas,

Stickstoffgasflasche

Halocarbon 116 CASs 76-16-4

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