Elektrische Ätzungsgas des Gas-C4F6 der Reinheits-99,95% für die Halbleiter-Verarbeitung

C4F6 Reinheit 99,95% Ätzungsgas für die Halbleiter-Verarbeitung

Beschreibung:

hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) Trockenätzengas, das es sich in Russland entwickelt hat. C4F6 ermöglicht Trockenätzen an einer Linienbreite von so schmalem wie 90 Nanometer oder weniger. Es ist deshalb für Verarbeitungssystem LSIs und die Hochgeschwindigkeits-, grossräumigen größtintegrierten Speicherbauelemente unentbehrlich, die in zunehmendem Maße in den digitalen Elektrogeräten und in den Flüssigkristallanzeigen benutzt werden.

Fluorkohlenstoffgase sind für die Verarbeitung der Silikonoxidschicht weitverbreitet. Verglichen mit dem octafluorocyclobutane (C4F8) z.Z. benutzt für die Verarbeitung an der Linienbreite von 130 Nanometer, hat C4F6 die folgenden Vorteile:

STANDARDpaket INFORMATION-ASIA UND NORDAMERIKA

Anwendungen:

1. Es kann in der Fluor-ansässigen Radierung verwenden.

2. Es kann in Reinigungsgasen auch verwenden,

3. C4F6 kann als organometallische filmbildende Gase verwenden,