99,9 % Reinheit Plus Spezialgase Hexafluor-2-Butin für die Halbleiterindustrie

Reinheit 99,9% Hexafluoro-2-butyne, verwenden in der Halbleiterindustrie.

Beschreibung:

‐ Hexafluoro1,3 butadine ist ein giftiges, farbloses, geruchloses, brennbares verflüssigtes komprimiertes Gas.

Gas C4F6 als etchant Gas für eine hohe Längenverhältnis-Kontaktfensterradierung kann ein gutes sein

Alternative zu PFC-Gasen.

hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) Trockenätzengas, das es sich in Russland entwickelt hat. C4F6 ermöglicht Trockenätzen an einer Linienbreite von so schmalem wie 90 Nanometer oder weniger. Es ist deshalb für Verarbeitungssystem LSIs und die Hochgeschwindigkeits-, grossräumigen größtintegrierten Speicherbauelemente unentbehrlich, die in zunehmendem Maße in den digitalen Elektrogeräten und in den Flüssigkristallanzeigen benutzt werden.

Fluorkohlenstoffgase sind für die Verarbeitung der Silikonoxidschicht weitverbreitet. Verglichen mit dem octafluorocyclobutane (C4F8) z.Z. benutzt für die Verarbeitung an der Linienbreite von 130 Nanometer, hat C4F6 die folgenden Vorteile:

niedrige Klimalast 1.Very, wie es in weniger als zwei Tage in der Atmosphäre zerlegt wird (verglichen mit 3.200 Jahren für C4F8)

2.Therefore, nützlich als Alternative zu den perfluorocarbons mit hohem Potenzial der globalen Erwärmung.

3.High Längenverhältnis, mit dem Ergebnis der schmalen und tiefen Nuten (passend für die Verarbeitung an der sehr schmalen Linienbreite).

Selektivität 4.High (stellt Radierung nur der Silikonoxidschicht sicher; beeinflußt nicht Fotoresist, Silikonsubstrat oder Nitridfilm)

Fysische eigenschappen

Anwendungen:

1. C4F6 kann als Art Monomere auch verwendet werden.

2. Es kann im Halbleiter verwenden, der Materialoperation verarbeitet