Detailinformationen

Anwendung:	Prozess der Lithographie-248nm und gemischt mit Halogen unter Verwendung der Mischgase	CAS No.:	7439-90-9
Keine UNO:	1982	Reinheit::	99,999%
Paket::	nahtlose Stahlzylinder	Andere Namen:	Sauerstoff-Tetrafluormethan-Mischung
Auftritt::	Farbloses Gas	Zylindervolumen::	10L, 25L, 40L oder 50L
Gradstandard:	Elektron-Grad-Grad	Toxische Substanz:	Ungiftig
Markieren:	Luftprodukt-Spezialitätengase , Luft liquide Spezialitätengase

Produkt-Beschreibung

Sauerstoff 1982 der UNO-Spezialitäten-Gasgemisch-20% mit Tetrafluormethan

Beschreibung:

Spezialitäten-Gasgemische

Tetrafluormethan ist eine Quelle von den freien Radikalen des Fluor- oder Kohlenstofffluorids, die in einer Vielzahl von Oblate etchprocesses benutzt werden. Tetrafluormethan wird mit Sauerstoff benutzt, um Polysilicon, Siliciumdioxid und Silikonnitrid zu ätzen.

Tetrafluormethan ist unter Normalbedingungen verhältnismäßig träge und ist eine Pulsstockung. Unter Rf-Plasmazuständen sind die freien Radikale des Fluors gewöhnlich in Form von CF3

oder CF2. Ein höherer Reinheitsgrad CarbonTetrafluoride-Ergebnisse in der überlegenen Steuerung des Prozesses, der bessere Mass- und Profilsteuerung ergibt.

Andere Halocarbons sowie das Vorhandensein der Luft oder des Sauerstoffes, ist zur Steuerung der anisotropen Ätzung schädlich.

Spezifikationen:

1. Physikalische Eigenschaften

Major Components
KOMPONENTEN	KONZENTRATION	STRECKE
O2	20%	19.9-20.1%
CF4	Balance

2. typische technische Daten (COA)

Maximale Verunreinigungen
KOMPONENTEN	KONZENTRATION (PPMs)
Kohlendioxyd (CO2)	<1>
Kohlenmonoxid (Co)	<1>
Feuchtigkeit (H2O)	<0>
Stickstoff (N2)	<10>
Sauerstoff (O2)	<5>
THC (als Methan) (CH4)	<0>
Andere Halocarbons	<1>
Schwefel-Hexafluorid	<1>

Zylinder Specifications*			Inhalt	Druck
Zylinder	Ventil-Ausgang-Wahlen		Pfund	PSIG	STANGE
2	CGA 580	DISS 716	70	2000	139

Sauerstoff 1982 der UNO-Spezialitäten-Gasgemisch-20% mit Tetrafluormethan 0

Anwendungen:

Tetrafluoromethane wird manchmal als Kühlmittel der niedrigen Temperatur verwendet.

Es wird in Elektronik microfabrication allein oder im Verbindung mit Sauerstoff als Plasma verwendet, das für Silikon, Siliciumdioxid und Silikonnitrid etchant ist.

Es hat auch Gebrauch in den Neutrondetektoren

Größe und Tag:

Herkunftsort:	China
Markenname:	Newradar Gas
Zertifizierung:	ISO/DOT/GB
Modellnummer:	N/A

Min Bestellmenge:	1000 Liter
Preis:	negotiation
Verpackung Informationen:	10kg, 40kg oder 50kg verpackt in der qualifizierten Gasflasche oder entsprechend den Nachfragen verp
Lieferzeit:	15-25 Werktage empfingen nachher Ihre Zahlung
Zahlungsbedingungen:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:	Kubikmeter 3,00 pro Monat

Sauerstoff 1982 der UNO-Spezialitäten-Gasgemisch-20% mit Tetrafluormethan

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