Herkunftsort: | China |
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Markenname: | Newradar Gas |
Zertifizierung: | ISO/DOT/GB |
Modellnummer: | N/A |
Min Bestellmenge: | 1PCS |
Preis: | negotiation |
Verpackung Informationen: | Verpackter in10L-50L Zylinder oder verpackt entsprechend den Nachfragen. |
Lieferzeit: | 25 Werktage nach Zahlungseingang |
Zahlungsbedingungen: | L/C, T/T, Western Union, MoneyGram |
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | 500 PC pro Monat |
Produkt-Name: | Argon-Fluorid-Mischungen | Füllgas: | Argon-, Neon-und Fluor-Gasgemische |
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Ventilart: | CGA679 | Anwendung: | Excimer-Laser |
Zylindervolumen: | 4-50L oder besonders anfertigen | Fülldruck: | 1800-2000 Psig |
Markieren: | Laser-Gasgemische,msds Erdgas |
Kundenspezifischer Excimer-Laser gast Argon-Fluorid-Laser für Lithographie 193nm
Beschreibung:
Argon-Fluorid-Mischungen werden in 193 Nanometer-Lithographieanwendungen, normalerweise in Verbindung mit einem trägen Gasgemisch benutzt.
Der Argonfluoridlaser ist eine bestimmte Art Excimerlaser, der manchmal einen exciplex Laser genannt wird. Mit seiner 193-Nanometer-Wellenlänge ist es ein tief ultravioletter Laser, der in der Produktion von Halbleiterintegrierten schaltungen, Augenoperation allgemein verwendet ist und micromachining, und wissenschaftliche Forschung. Der Ausdruck Excimer ist für „aufgeregtes Dimer“ kurz, während exciplex für „aufgeregten Komplex“ kurz ist. Ein Excimerlaser benutzt gewöhnlich eine Mischung eines Edelgases und ein Halogen, das unter geeigneten Umständen der elektrischen Anregung und des Hochdrucks, zusammenhängende angeregte Strahlung in der ultravioletten Strecke ausstrahlt.
ArF-Excimerlaser sind in hochauflösenden Photolithographiemaschinen, eine der kritischen Technologien weitverbreitet, die für Mikroelektronische Chipherstellung erfordert werden. Excimerlaser-Lithographie hat Transistorkenngrößen ermöglicht, von 800 Nanometern im Jahre 1990 zu 22 Nanometern im Jahre 2012 zu schrumpfen.
Spezifikationen:
1. Physikalische Eigenschaften
Ware | Argon-Fluoridgas |
Molekulare Formel | ArF |
Phase | Gas |
Farbe |
Farblos |
Gefährliche Klasse für transort | 2,2 |
2. typische technische Daten (COA)
Major Components | |||
KOMPONENTEN | KONZENTRATION | STRECKE | |
Fluor | 1,0% | 0.9-1.0% | |
Argon | 3,5% | 3.4-3.6% | |
Neon | Balance | ||
Maxinum-Verunreinigungen | |||
KOMPONENTE | KONZENTRATION (ppmv) | ||
Kohlendioxyd (CO2) | <5> | ||
Kohlenmonoxid (Co) | <1> | ||
Tetrafluormethan (CF4) | <2> | ||
Karbonyl-Fluorid (COF2) | <2> | ||
Helium (er) | <8> | ||
Feuchtigkeit (H2O) | <25> | ||
Stickstoff (N2) | <25> | ||
Stickstoff-Trifluorid (NF3) | <1> | ||
Sauerstoff (O2) | <25> | ||
Silikon Tetrafluoride (SiF4) | <2> | ||
Schwefel-Hexafluorid (SF6) | <1> | ||
THC (als Methan) (CH4) | <1> | ||
Xenon (Xe) | <10> |
3. Paket
Zylinder-Spezifikationen | Inhalt | Druck | ||||
Zylinder | Ventil-Ausgang-Wahlen | Kubikfüße | Liter | PSIG | STANGE | |
1 | CGA679 | DISS 728 | 265 | 7500 | 2000 | 139 |
2 | CGA679 | DISS 728 | 212 | 6000 | 2000 | 139 |
3 | CGA679 | DISS 728 | 71 | 2000 | 1800 | 125 |
Anwendungen:
Argon-Fluorid-Mischungen werden in 193 Nanometer-Lithographieanwendungen, normalerweise in Verbindung mit einem trägen Gasgemisch benutzt.