Wuhan Newradar Spezielle Gas GmbH
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Produktdetails:
Zahlung und Versand AGB:
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| Produktname: | Argon-Fluorid-Mischungen | Füllgas: | Argon-, Neon-und Fluor-Gasgemische |
|---|---|---|---|
| Ventilart: | CGA679 | Molare Masse: | 59,954 g/mol |
| Molare Masse: | 59,954 g/mol | Farbe: | FARBLOS |
| Farbe: | FARBLOS | Ventilausgang: | Diss 728 |
| Ventilausgang: | Diss 728 |
Farbloser Excimer-Laser-Gas-Mischgut-Gas ArF Laser für UV-Licht
Beschreibung:
Das UV-Licht von einem ArF Laser wird gut durch biologische Angelegenheit und organische Verbindungen absorbiert. Eher als, Material brennend oder schneiden, trennt der ArF Laser die molekularen Bindungen des Oberflächengewebes, das in die Luft in einer hochstrukturierten Art durch Entfernung eher als brennend sich auflöst.
So haben das ArF und andere Excimerlaser das nützliche Eigentum, das sie außergewöhnlich feine Schichten Oberflächenmaterial mit fast keiner Heizung entfernen oder zum Rest des Materials ändern können, das intakt gelassen wird. Diese Eigenschaften machen solche Laser gut angepasst zur Präzision, die organische Materialien micromachining ist (einschließlich bestimmte Polymere und Plastik) und besonders empfindliche Operationen wie Augenoperation.
Vor kurzem durch den Gebrauch von einem neuen beugenden verbreiteten System, das aus zwei microlens Reihen besteht, ist die Oberfläche, die durch ArF Laser auf fixiertem Silikon micromachining ist, mit submicrometer Genauigkeit durchgeführt worden.
Spezifikationen:
1. Physikalische Eigenschaften
| Ware | Argon-Fluoridgas |
| Molekulare Formel | ArF |
| Phase | Gas |
| Farbe |
Farblos |
| Gefährliche Klasse für transort | 2,2 |
2. typische technische Daten (COA)
| Hauptteile | |||
| KOMPONENTEN | KONZENTRATION | STRECKE | |
| Fluor | 1,0% | 0.9-1.0% | |
| Argon | 3,5% | 3.4-3.6% | |
| Neon | Balance | ||
| Maxinum-Verunreinigungen | |||
| KOMPONENTE | KONZENTRATION (ppmv) | ||
| Kohlendioxyd (CO2) | <5> | ||
| Kohlenmonoxid (Co) | <1> | ||
| Tetrafluormethan (CF4) | <2> | ||
| Karbonyl-Fluorid (COF2) | <2> | ||
| Helium (He) | <8> | ||
| Feuchtigkeit (H2O) | <25> | ||
| Stickstoff (N2) | <25> | ||
| Stickstoff-Trifluorid (NF3) | <1> | ||
| Sauerstoff (O2) | <25> | ||
| Silikon Tetrafluoride (SiF4) | <2> | ||
| Schwefel-Hexafluorid (SF6) | <1> | ||
| THC (als Methan) (CH4) | <1> | ||
| Xenon (Xe) | <10> | ||
3. Paket
| Zylinder-Spezifikationen | Inhalt | Druck | ||||
| Zylinder | Ventil-Ausgang-Wahlen | Kubikfüße | Liter | PSIG | STANGE | |
| 1 | CGA679 | DISS 728 | 265 | 7500 | 2000 | 139 |
| 2 | CGA679 | DISS 728 | 212 | 6000 | 2000 | 139 |
| 3 | CGA679 | DISS 728 | 71 | 2000 | 1800 | 125 |
Anwendungen:
Argon-Fluorid-Mischungen werden in 193 Nanometer-Lithographieanwendungen, normalerweise in Verbindung mit einem trägen Gasgemisch benutzt.
